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半导体工艺(二)：光刻技术（制版技术）
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2024-12-18【科技前沿】47人已围观
简介掩模版，也称为光掩模版或光掩膜，是半导体工艺技术中用于光刻工艺的光复印掩蔽模版。它是一种关键的微电子制造工具，承载有设计好的图形，用于将这些图形精确地转移到半导体晶圆上。光掩模版通常由透明的基板（如石英玻璃）和不透明的遮光膜（如铬）组成，通过精确的图形设计、光刻、显影和蚀刻等工艺步骤制成。在光刻工艺...
掩模版，也称为光掩模版或光掩膜，是半导体工艺技术中用于光刻工艺的光复印掩蔽模版。它是一种关键的微电子制造工具，承载有设计好的图形，用于将这些图形精确地转移到半导体晶圆上。
光掩模版通常由透明的基板（如石英玻璃）和不透明的遮光膜（如铬）组成，通过精确的图形设计、光刻、显影和蚀刻等工艺步骤制成。在光刻工艺中，光线透过掩模版，将设计好的图形精确地投影到光刻胶上，从而实现对半导体晶圆上的微细加工。
光掩模版的制作质量直接影响到集成电路的性能、可靠性和成品率。随着技术的进步，对光掩模版的精度、缺陷密度和耐用性能的要求不断提高；
掩膜版
掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上，其中主要是各种微电路；
掩膜版图形投影
掩膜版制作流程
集成电路制版工艺流程
掩膜版的基本构造
掩膜版的质量要求
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